科毅股份有限公司|TEEIA B2B SOLUTION ONLINE

公司介紹

我們的使命：「工藝求精‧堅持創新」
科毅科技提供專業的黃光設備(清洗、塗佈、曝光(光刻)、顯影、蝕刻機台、玻璃光罩設計…等新/中古設備)，以及提供客戶潔淨且完善的微影實驗室，並經由專業團隊的研發與實驗，更可設計出符合客戶需求的「客製化黃光機台設備」。

我們的願景：「成為Photo 微影製程設備及材料的專家」
Photo 微影製程設備是微電子製造和半導體產業的主要設備之一。這些設備主要用於在矽晶圓和其他基板上創建精細圖案，以形成積體電路和其他微電子設備的結構。

主要產品與服務

我們的服務範圍：

光刻系統：
科毅能提供光刻設備製造服務。光刻系統採用紫外光或其他特定波長的光源，透過光阻和光罩將預定圖案投影到矽片表面。在此階段，確定每個部件的確切位置和尺寸。
光阻：
科毅能提供光阻感光材料服務。光阻塗在矽片表面，透過微影系統曝光，形成光刻圖案。通常暴露於紫外線或深紫外線輻射下。
遮罩版（光掩膜）：
科毅能提供遮罩版服務。遮罩版是一塊透明的玻璃或石英板，其上印有所需圖案的光刻圖案。光刻系統的投影將該圖案轉移到光阻上。製作需要高精度的工藝。
曝光光源(UV Led)：
科毅能提供曝光光源(UV Led)產生的服務。除了UV Led (365nm/405nm/435nm)的光源提供之外，也可以用來改裝各種其他廠家的曝光設備的光源系統。
塗佈設備及顯影設備：
科毅能提供各種類型的塗佈/顯影/去光阻/蝕刻的設備製造服務。
半導體周邊系統：
科毅能提供半導體周邊系統製造服務。目前販售有 : MCS (Mask Clean System)是一種物理性非機械或化學接觸的光罩清洗設備，具備高效除塵效果，更是EUV高階設備的好幫手。

企業基本資訊

企業中文名稱

科毅科技股份有限公司

董事長

林憲維

連絡電話

(03)485-2036

傳真電話

(03)485-2512

聯絡地址

桃園市楊梅區高獅路863巷10號

聯絡人

林憲維

電子郵件

richard@mrnanotec.com.tw

企業網站

https://www.mrnanotec.com.tw/

產業類別

半導體產業