接觸是曝光機系列，主要區分4大機型，個機型皆採模組化設計，可任意搭配不同曝光光源支組合，並且適用各種尺寸晶圓或基板。四大分類如下：1. SLC : 簡易機械式桌上型曝光系統，適用: 學術研究,教學單位,基礎研究。2. 手動曝光機：手動落地型曝光系統，適用:一般企業界研發單位, 學術教學單位。 3. 半自動曝光機：半自動落地型曝光系統，適用:企業界各單位使用,亦可直接投入生產。 4. 全自動曝光機：全自動落地型曝光系統，適用:企業界生產線。
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