半導體產業專用高溶解性醯胺類溶劑|TEEIA B2B SOLUTION ONLINE

半導體產業專用高溶解性醯胺類溶劑

廠商名稱：春竑工業有限公司

春竑工業與同半導體設備公司共同研發了專門針對半導體製造過程的高效洗劑。
該洗劑具有以下特點：
1. 溶解範圍寬，能溶解各種極性大小不同的物質。
2. 對聚醯亞胺與聚醯胺等難溶性聚合物，也能達到良好的溶解效果。
3. 適合應用於噴墨油墨，能夠有效提升列表機的噴墨穩定性、油墨的儲存安定性、印刷適性。
HCH-m1 和 HCH-B3 是春竑工業開發的兩種半導體專用洗劑產品：
1. HCH-m1 含有醯胺基以及甲氧基烷基，是無色透明的醯胺類化合物。
2. HCH-B3 含有醯胺基以及丁氧基烷基，也是無色透明的醯胺類化合物。
該洗劑能夠有效去除晶圓表面的各種雜質和殘留物，包括 PVDF（聚偏二氟乙烯），確保後續工序的順利進行。
洗劑配方經過精心設計，不會對晶圓表面造成任何損害，同時具有良好的環保性。
該洗劑已廣泛應用於國內外知名半導體製造企業，深受客戶好評。

詳細說明

春竑工業與同半導體設備公司共同研發了專門針對半導體製造過程的高效洗劑。
該洗劑具有以下特點：
1. 溶解範圍寬，能溶解各種極性大小不同的物質。
2. 對聚醯亞胺與聚醯胺等難溶性聚合物，也能達到良好的溶解效果。
3. 適合應用於噴墨油墨，能夠有效提升列表機的噴墨穩定性、油墨的儲存安定性、印刷適性。
HCH-m1 和 HCH-B3 是春竑工業開發的兩種半導體專用洗劑產品：
1. HCH-m1 含有醯胺基以及甲氧基烷基，是無色透明的醯胺類化合物。
2. HCH-B3 含有醯胺基以及丁氧基烷基，也是無色透明的醯胺類化合物。
該洗劑能夠有效去除晶圓表面的各種雜質和殘留物，包括 PVDF（聚偏二氟乙烯），確保後續工序的順利進行。
洗劑配方經過精心設計，不會對晶圓表面造成任何損害，同時具有良好的環保性。
該洗劑已廣泛應用於國內外知名半導體製造企業，深受客戶好評。

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